基于强磁控溅射沉积法的玻璃表面镀膜三呢

基于强磁控溅射沉积法的玻璃表面镀膜(三)

3．3 膜层附着力及化学稳定性

用透明胶带按Pulker方法对样品进行膜层的附着力试验，膜层无脱落现象，其附着力在2000N·mm-2。分别用蘸有酒精和乙醚的棉球擦拭膜层表面，膜层无变化。把镀膜样品放在25℃的水中浸泡48h，膜层没有脱落现象。把样品放在温度为25℃、浓度为5％的NaOH溶7. 位移量程：600mm液中浸泡48h，膜层无脱落现象。放在温度为25℃、浓度为5％的HCl溶液中浸泡48h，膜层亦无脱落现象。

通过以上几种方法的试验，说明用该方法沉积的薄膜有很强的机械强度和高的化学稳定性。

3．4 膜的光谱特性

镀膜玻璃和玻璃基片对可见光到红外的透过率，对500～2500nm红外热射线的透过率见图4中a图，镀膜的玻璃对可见光、热射对实验进程的操控和数据处理符合相应金属资料与非金属资料国家标准的需求线透过率均比较低，在700nm、1100nm、1500nm分别有吸收峰。对可见光和700~2500nm红外(热射线)的反射率见图4中b图。在300～750nm范围内镀硅膜玻璃的反射率为45％~55％，未镀膜的浮法玻璃在1制造商0％以下。在700～2000nm范围内镀硅膜玻璃反射率为45％，在750nm、1100nm、1500nm左右有反射峰；未镀膜浮法玻璃反射率在l0％左右。在红外波段的反射峰和吸收峰均是硅膜形成的。硅膜呈华丽的银灰色。

4 结语

用微波ECR等离子体增强磁控溅射沉积技术成功地制得了硅膜，膜厚320．5nm，沉积速度为3．2nm／min。膜层颗粒平均直径30～40nm。均方根粗糙度为1．497～2．471nm。膜的附着力比较好，化学稳定性也比较高，对近红外波段特别是700～2500nm热射线波段有较低的透过率和较高的5.卖方服务态度明显产生差距反射率，可作为吸热和热反射材料，也可作装饰材料。